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2019-07-02 宣布专利
2019-06-28 宣布专利
2019-06-25 宣布专利
2019-06-21 宣布专利
2019-06-18 宣布专利
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2019-06-11 宣布专利
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一种NiZn铁氧体薄膜的制备措施在审

请求号: CN201910202780.0 全文下载
请求日: 2019-03-18 地下/告诉书记日: 2019-06-07
地下/告诉书记号: CN109852929A 主分类号: C23C14/08
请求/专利权人: 电子科技大学
创作缔造/设计人: 孙科;闫妍;郭荣迪;余忠;蒋晓娜;兰中文;邬传健
分类号: C23C14/08;C23C14/34;C23C14/35;C23C18/12;C23C28/04
搜索要害词: 铁氧体薄膜 制备 种子层 射频磁控溅射法 薄膜制备手艺 射频磁控溅射 半导体工艺 肇端磁导率 改变喷涂法 饱和磁化 玻璃基片 高温条件 高温退火 阻拦频率 结晶性能 器件应用 改变喷涂 不兼容 铁氧体 薄膜 群集 引入
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【摘要】:
一种NiZn铁氧体薄膜的制备措施,属于薄膜制备手艺领域。该措施首先接纳改变喷涂法在玻璃基片上制备NiZn铁氧体种子层,然后再接纳射频磁控溅射法在种子层上群集NiZn铁氧体薄膜。本创作缔造措施制备的NiZn铁氧体薄膜无需经事后续高温退火处置赏罚赏罚,处置赏罚赏罚了铁氧体薄膜在后续器件应用中与半导体工艺不兼容的效果;同时,改变喷涂法制得的NiZn种子层的引入,在高温条件下使射频磁控溅射法制备的NiZn薄膜具有更好的结晶性能,饱和磁化强度4πMs(≥5900Gs)、肇端磁导率μi(≥200)和阻拦频率fr(≥1.85GHz)大幅度前进。
 
【主权项】:
1.一种NiZn铁氧体薄膜的制备措施,网罗以下法式模范:法式模范1、接纳改变喷涂法在基片上群集NiZn铁氧体种子层;1.1将二价铁盐、可溶性镍盐和可溶性锌盐加入去离子水中,配制取得回复液;其中,二价铁盐的浓度为1.3~1.6g/L,可溶性镍盐的浓度为0.2~0.3g/L,可溶性锌盐的浓度为0.08~0.10g/L;1.2将亚硝酸盐和乙酸盐加入去离子水中,混淆匀称,取得氧化液;其中,亚硝酸盐的浓度为0.1~0.2g/L,乙酸盐的浓度为1.3~1.4g/L;1.3在基片上群集NiZn铁氧体种子层:首先,划分将法式模范1.1取得的回复液和法式模范1.2取得的氧化液雾化为粒径为30~40μm的液滴;然后,将回复液与氧化液划分经两个喷嘴同时放射至放置于改变平台上的基片上,回复液与氧化液的放射流量均为10~20ml/min,在改变平台转速为80~120rpm、温度为90~150℃的条件下喷涂,取得厚度为50~200nm的NiZn铁氧体种子层;法式模范2、接纳溅射法在法式模范1取得的NiZn铁氧体种子层上群集NiZn铁氧体薄膜;其中,溅射靶材为NiyCu0.1Zn0.9‑yFe2O4铁氧体靶材,0.2<y<0.3,背底真空为3.0×10‑4~4.0×10‑4Pa,溅射气体为惰性气体,溅射气压为1.2~1.6Pa,溅射功率为120~150W,基片温度为100~300℃,取得的NiZn铁氧体薄膜厚度为500nm~700nm;完成所述NiZn铁氧体薄膜的制备。
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